2021年11月5日，中國上海——

11月5日至10日，全球晶片光刻技術的領導者ASML（阿斯麥）再度亮相第四屆中國國際進口博覽會（以下簡稱“進博會”）， 展臺號4。1 A1-001。 ASML以“光刻未來，攜手同行”為主題，首次在進博會平臺上以影片形式展示了光刻機內部各個模組之間的基本原理，並展示了ASML“鐵三角”業務——全方位光刻解決方案，持續傳遞ASML深耕中國市場，推動中國乃至全球半導體行業共同發展的願景。

ASML展臺首日迎來眾多專業觀眾

近年來，中國積體電路產業發展迅速，為了聚焦產業前沿方向，深化合作和開放理念，技術裝備展區首次設立了積體電路專區，而ASML便是在積體電路專區亮相。“近年來，中國積體電路行業發展十分強勁，增設積體電路專區有助於加強國內外積體電路產業間的交流，為加快構建新發展格局貢獻力量。”

 ASML全球副總裁、中國區總裁沈波

表示，“今年是ASML第三次參加進博會。進博會持續展現了中國繼續擴大開放和推動創新的決心，ASML也正是抱著開放合作的態度多次參與進博會。我們希望能夠藉助進博會的平臺進一步展示ASML領先的光刻解決方案和卓越的服務，深化與本土客戶的合作，與中國的半導體產業鏈共同成長，併為中國半導體行業培養和輸送優秀人才。”

首次揭秘光刻機的內部世界

一直以來，ASML不斷精進光刻精度，推進摩爾定律前進。為了更好地展示ASML領先的光刻工藝，ASML在本屆進博會上首次透過3D裸眼影片為觀眾分享光刻機的基本原理——光源經過照明模組投向掩模版，再穿過掩模版上的電路圖案，透過投影物鏡將影像聚焦到晶圓上。

此外，ASML還透過H5遊戲的方式為觀眾帶來了線上“追光實驗室”，為參觀者打造了一座沉浸式體驗光刻原理的虛擬互動實驗室，從而體驗浸潤式光刻系統與雙晶圓工作臺等尖端前沿的光刻技術。

展示“鐵三角”光刻全方位解決方案

1984年以來，ASML的光刻解決方案在微小的世界中實現了巨大的飛躍，透過硬體、軟體相結合，ASML提出了全方位的光刻解決方案，以先進控制能力的光刻機臺，計算光刻和電子束量測，透過建模、模擬、分析等技術，不斷提高邊緣定位精度，持續賦能每一代晶片的製造，提高晶片生產的良率和產能。

在ASML的計算光刻解決方案中，機器學習和大資料將發揮突出的作用，實現對整個光刻和量測過程的高精度預測，幫助晶片製造商最佳化製造流程，以最低的成本實現最高的效能。而量測檢驗系統將透過使用多個電子束快速測量晶圓上的所有資料點，幫助晶片製造商有效地控制晶片缺陷率。

推動半導體行業不斷突破極限，促進行業人才發展

近年來，隨著5G、人工智慧和物聯網的發展，對於更智慧、更小、更快、更節能的晶片的追求推動著半導體行業加速前進。自1988年向中國提供第一臺光刻機開始，ASML便與中國深深結緣。2000年， ASML中國正式成立。為了不斷滿足中國半導體行業的發展需求，更好地支援和服務本土客戶，ASML還於近期著手建設本地維修和軟體研發能力。

沈波表示：“半導體是一條高度全球化的產業鏈，開放合作是最核心的行業發展理念，ASML的光刻機也依賴於半導體產業全球合作生產。中國的半導體行業正進入快速發展的新階段，對創新的光刻解決方案和優秀人才的需求與日俱增。”

作為行業領導者，ASML也加快為中國半導體行業持續分享經驗並培養技術研發人才。一直以來，ASML在中國持續踐行企業社會責任，牽手公益基金開展各類專案助力青年科技人才培養；2018年，ASML在上海成立了全球培訓中心，加深了本土光刻人才的發展。2021年，ASML開放了大量軟硬體人才的職位，覆蓋全方位光刻解決方案的各塊業務。秉承驅動半導體各種創新應用幫助解決人類生活中的各種挑戰，ASML攜手業內人士、客戶和行業夥伴共同拓展光刻技術的邊界，為實現人類更智慧、更美好的生活賦能。