在晶片禁令下，荷蘭的EUV光刻機不能出口中國，沒有了這款光刻機，想造出先進製程的晶片是難上加難。國產EUV光刻機已經在佈局中，光刻機的三個關鍵核心技術：EUV光學鏡頭、EUV光刻光源、雙工件臺系統，只要克服後，實現7年量產也不是問題。

目前，最先進的光刻機只有荷蘭ASML公司可以製造，但是因為美國的限制，唯獨EUV光刻機不能出售給中國，中芯國際在ASML公司購買的12億美元的光刻機，也只是落後先進水平的二手DUV光刻機。那麼，國內就沒有企業能造光刻機嗎？

可以，我們有光刻機，但是技術相當落後，不能實現量產晶片，並且機器風險很大。光刻機複雜的工藝也限制著國產光刻機的發展，這也是為什麼全球都只有一家公司可以建造的原因。

光刻機技術中的雙工件臺裝置及其配套的技術系統，北京華卓精科取得了很大的成果，他研製出的1。7nm精度的工件臺應用到了上海微電子的28nm光刻機中，成為全球唯二擁有這個技術的企業，第一家是荷蘭ASML。

鑽研光源裝置的企業有上海光機所、哈工大以及清華團隊等。光刻機光鏡，攻克這個技術的企業有中科院高能物理研究所，還有中科科儀旗下的中科科美。中科院的高能光源科研裝置目前處於安裝階段，預計2022年完成。

上海微電子的光刻機已經投入使用，這個訊息相信大家都有看到，用芯盒子也有詳細介紹過，想了解詳細的內容，可以移步主頁。如果這些困難都一一克服，5到7年時間，國產光刻機就能突出重圍，投入量產。目前28nm晶片已經佔據主流地位，所以，28nm的問題解決後，就能夠緩解缺芯。