說到光刻機，大家想到的都是荷蘭的AMSL公司，現在全球只有他們可以造出最先進的光刻機。要想造光刻機非常困難，因為光刻機所需零件多、技術要求極高。那麼，為什麼我們國家的光刻機就那麼落後呢？

光刻機像一個照相機，利用光在矽片上進行操作，電路圖透過光刻機投射到底片上，就像用光進行雕刻。現在的光刻機是利用極紫外光，同時需要一系列精密的儀器來改變光，最終達到光刻的效果。7nm及以下的先進工藝就是使用EUV光刻機，但目前只有荷蘭ASML可以生產能夠實現量產的光刻機。

國內的光刻機之路是怎樣的呢？早在1977年，我國最早的光刻機誕生，名叫JGK-3，隨後，在1985年，就研製出來首臺g線1。5um分步光刻機，那時和國外有差距，但差距不超過4年。

但是隨著時間的推移，80年代末，為了儘快的趕上國外和國內的差距，我們奉行“造不如買，買不如租”的政策，大力引進國外技術，但是國外技術因為其先進性，變相打壓了國產技術，競爭之下，國產技術得不到支援，發展緩慢。

直到2000年，國產企業才重新意識到光刻機領域的落後，開始自主研發，但長久依賴進口使國內技術環境非常落後，人才也大量流失到國外，國內外差距非常大。即使是國內的上海微電子，在國外排名也只能躋身三線。同時，我們還有其他的弱點，那就是沒有完善的半導體供應鏈體系，所以在美國的技術封鎖下，我們只能默默挨“卡”。

以前奉行的政策是一個原因，另一個客觀原因就是海外的技術壟斷，美國一直限制先進技術出口中國，即使出售光刻機，也含有保留條款。海外技術壟斷下，自研更加困難。

即使如此艱難，我們依舊不會停下腳步，國產替代勢在必行，相信科研人員的努力，相信國家科技的發展。