國產半導體裝置廠商至純科技在互動平臺表示：28nm節點全部溼法工藝裝置已經完成認證。溼法清洗裝置屬於半導體制造中清洗環節，又一國產裝置成功認證，促進國產替代發展。

關注

用芯盒子

，您的關注就是用芯盒子更新的動力。

晶片製造的過程相當複雜，總的來說分為晶片設計、晶片代工、晶片封測三個大環節，溼法裝置就是用於晶片代工中的清洗環節的，清洗佔代工步驟的30%以上，是相當重要的一步。

國內的溼法裝置提供商有至純科技、北方華創和盛美，至純科技成立於2000年，去年，該公司的溼法裝置出貨量超過30臺，在國產廠家中有很重要的地位。此次完成了28nm節點的全部裝置認證，並對14nm和7nm的裝置持續攻克中。現在使用至純科技裝置的廠商有華為、中芯國際、華虹半導體。

在清洗裝置領域，國內自主化不到10%，市場份額被日韓企業壟斷，在晶片被卡脖子的情況下，至純科技的28nm攻克，有效地促進了國產晶片自主化。28nm是當前國內主要量產目標，有訊息說國內將在今年年底或明年年初實現完全自主化的28nm量產，看來並不是沒有希望。

當前除了28nm的量產，中芯國際還在努力攻克7nm晶片量產，但是由於沒有先進的EUV光刻機支援，陷入僵局。國內不止中芯國際一家國產企業，雖然中芯國際的實力是最強的，但晶片製造需要的是各方面的配合，希望國內半導體行業多多湧現出好企業，助力國產半導體發展。